Каталог центрифуг spinNXG для нанесения фоторезиста

Восемь моделей spinNXG — от базовой P1 до полностью оснащённой P1ACH и расширенной P2/P2H, плюс центрифуга расширенного диапазона EZspin-A1. Модели отличаются программированием, ПК-логированием и нагревом крышки; общая платформа — диапазон 100–10 000 об/мин, точность <±1 %, тефлоновая (PTFE) камера. Внешний контроллер температуры Apex TempX-T1S — в разделе «Опции».

Как выбрать модель

  1. 1–2 типовые методики без нагрева — достаточно spinNXG-P1.
  2. 1–2 рецепта с предварительной сушкой (soft bake) — spinNXG-P1H.
  3. Много протоколов (фоторезисты + золь-гель + полимеры) — spinNXG-P1A (15×20).
  4. Перовскиты и валидируемые процессы — spinNXG-P1AC (журнал .spin).
  5. Расширенный температурный режим — spinNXG-P1ACH + Apex TempX-T1S.
  6. Экстра-диапазон оборотов (50 или 12 000) — EZspin-A1.

Сравнение моделей spinNXG

Прокрутите таблицу по горизонтали — первый столбец с параметрами зафиксирован.

Параметр P1P1HP1AP1AHP1ACP1ACHP2P2HEZspin-A1
Скорость, об/мин100–10 000100–10 000100–10 000100–10 000100–10 000100–10 000100–10 000100–10 00050–12 000
Точность скорости<±1 %<±1 %<±1 %<±1 %<±1 %<±1 %<±1 %<±1 %<±1 %
Ускорение, об/мин·с40–5 00040–5 00040–5 00040–5 00040–5 00040–5 00040–5 00040–5 00040–6 000
Программ × шагов2×102×1015×2015×2015×2015×2050×10050×10030×50
Время выдержки, с1–10 0001–10 0001–10 0001–10 0001–10 0001–10 0001–10 0001–10 0001–10 000
Камера8″ PTFE8″ PTFE8″ PTFE8″ PTFE8″ PTFE8″ PTFE10″ PTFE10″ PTFE8″ PTFE
Нагрев крышки
ПК-управление
Питание230 В · 50 Гц230 В · 50 Гц230 В · 50 Гц230 В · 50 Гц230 В · 50 Гц230 В · 50 Гц230 В · 50 Гц230 В · 50 Гц230 В · 50 Гц

Все модели

9 позиций: 8 центрифуг spinNXG и центрифуга расширенного диапазона EZspin-A1.

Центрифуга для нанесения фоторезиста spinNXG-P1 В наличии

spinNXG-P1

Базовая программируемая модель

  • 2 программы × 10 шагов
  • 8″ PTFE-камера
  • 100–10 000 об/мин
  • Безмасляный насос Rocker 410 в комплекте
Подробнее на czl.ru
Центрифуга для нанесения фоторезиста spinNXG-P1H Под заказ

spinNXG-P1H

Базовая модель с нагревом крышки

  • 2 программы × 10 шагов
  • Нагрев крышки до +70 °C
  • 8″ PTFE-камера
  • 100–10 000 об/мин
Подробнее на czl.ru
Центрифуга для нанесения фоторезиста spinNXG-P1A В наличии

spinNXG-P1A

Универсальная R&D-модель

  • 15 программ × 20 шагов
  • 8″ PTFE-камера
  • 100–10 000 об/мин
  • Многопротокольная R&D-модель
Подробнее на czl.ru
Центрифуга для нанесения фоторезиста spinNXG-P1AH Под заказ

spinNXG-P1AH

Многопротокольная модель с нагревом

  • 15 программ × 20 шагов
  • Нагрев крышки до +70 °C
  • 8″ PTFE-камера
  • 100–10 000 об/мин
Подробнее на czl.ru
Центрифуга для нанесения фоторезиста spinNXG-P1AC В наличии

spinNXG-P1AC

Перовскиты, логирование на ПК

  • 15 программ × 20 шагов
  • ПК-управление + журнал .spin
  • Разгон 2–3 с — для антирастворителя
  • 8″ PTFE-камера
Подробнее на czl.ru
Центрифуга для нанесения фоторезиста spinNXG-P1ACH В наличии

spinNXG-P1ACH

Максимальная комплектация: ПК + нагрев

  • 15 программ × 20 шагов
  • ПК-управление + журнал .spin
  • Нагрев крышки до +70 °C
  • Совместимо с Apex TempX-T1S
Подробнее на czl.ru
Центрифуга для нанесения фоторезиста spinNXG-P2 Под заказ

spinNXG-P2

Расширенная камера 10″, графический дисплей

  • 50 программ × 100 шагов
  • Расширенная 10″ PTFE-камера
  • Графический ЖК-дисплей
  • 100–10 000 об/мин
Подробнее на czl.ru
Центрифуга для нанесения фоторезиста spinNXG-P2H Под заказ

spinNXG-P2H

Расширенная камера 10″ с нагревом

  • 50 программ × 100 шагов
  • Расширенная 10″ PTFE-камера
  • Нагрев крышки до +70 °C
  • Графический ЖК-дисплей
Подробнее на czl.ru
Центрифуга для нанесения фоторезиста EZspin-A1 Под заказ

EZspin-A1

Экстра-диапазон оборотов 50–12 000

  • Расширенный диапазон 50–12 000 об/мин
  • 30 программ × 50 шагов
  • Ускорение до 6 000 об/мин·с
  • 8″ PTFE-камера
Подробнее на czl.ru

Вакуумные держатели подложек — 10 типоразмеров

В базовый комплект входит вакуумный держатель диаметром 25 мм. Держатели других типоразмеров можно дополнительно включить в комплект поставки. Изготовление держателей под нестандартные образцы — по запросу через производителя.

Вакуумный держатель 110 мм, установленный в камере спин-коатера spinNXG
держатель 110 мм
Вакуумный держатель 78 мм, установленный в камере спин-коатера spinNXG
держатель 78 мм
Вакуумный держатель 50 мм, установленный в камере спин-коатера spinNXG
держатель 50 мм
Вакуумный держатель 40 мм, установленный в камере спин-коатера spinNXG
держатель 40 мм
Вакуумный держатель 30 мм, установленный в камере спин-коатера spinNXG
держатель 30 мм
Вакуумный держатель 25 мм, установленный в камере спин-коатера spinNXG
держатель 25 мм
Диаметр подложки Минимальный размер образца Изображение Эскиз
1 110 мм 85 мм
Вакуумный держатель подложки 110 мм
Эскиз держателя 110 мм (мин. образец 85 мм)
2 78 мм 65 мм
Вакуумный держатель подложки 78 мм
Эскиз держателя 78 мм (мин. образец 65 мм)
3 50 мм 40 мм
Вакуумный держатель подложки 50 мм
Эскиз держателя 50 мм (мин. образец 40 мм)
4 40 мм 22 мм
Вакуумный держатель подложки 40 мм
Эскиз держателя 40 мм (мин. образец 22 мм)
5 30 мм 22 мм
Вакуумный держатель подложки 30 мм
Эскиз держателя 30 мм (мин. образец 22 мм)
6 40 мм 27 мм
Вакуумный держатель подложки 40 мм
Эскиз держателя 40 мм (мин. образец 27 мм)
7 25 мм 12 мм
Вакуумный держатель подложки 25 мм
Эскиз держателя 25 мм (мин. образец 12 мм)
8 25 мм 11 мм
Вакуумный держатель подложки 25 мм
Эскиз держателя 25 мм (мин. образец 11 мм)
9 25 мм 10 мм
Вакуумный держатель подложки 25 мм
Эскиз держателя 25 мм (мин. образец 10 мм)
10 25 мм 5 мм
Вакуумный держатель подложки 25 мм
Эскиз держателя 25 мм (мин. образец 5 мм)

Не уверены, какая модель подойдёт?

Опишите задачу — материал, диаметр подложки — и мы подберём конфигурацию.